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甘绍宁为我国第一个国家知识产权示范园区授牌
中央政府门户网站 www.gov.cn   2010年11月04日   来源:知识产权局网站

    在11月2日召开的第八届“武汉·中国光谷”知识产权保护国际论坛开幕式上,国家知识产权局副局长甘绍宁将“国家知识产权示范园区”的匾牌授予武汉东湖新技术开发区,这是由国家知识产权局批准的全国第一个“国家知识产权示范园区”。

    甘绍宁表示,2007年11月,国家知识产权局批准武汉市为全国首批“国家知识产权工作示范城市”,今天,又批准武汉东湖高新区为全国首家“国家知识产权示范园区”,这些都说明武汉市知识产权事业呈现出又好又快发展的良好势头,希望武汉市在总结成绩的基础上,再接再厉,进一步抓好知识产权工作。

    2000年以来,东湖高新区建设国家知识产权示范园区开始起步,在全国高新区中率先开展国家知识产权示范园区的试点创建工作,许多工作开创了全国高新区知识产权工作的先河。东湖高新区率先在高新区设立知识产权管理机构,率先在高新区设立知识产权信息服务机构,率先在高新区设立专项资金支持知识产权工作,率先颁布实施高新区知识产权战略。

    东湖高新区在高新区知识产权管理体制、工作机制、激励机制、转化实施、信息利用、文化建设等方面与时俱进、开拓创新、大胆探索,使园区高新技术企业的自主创新能力明显提高,知识产权创造能力、运用能力和保护意识显著增强。专利申请量以年均32%的速度高速增长,2007-2009年累计申请专利12520件,占全市同期专利申请总量的35.9%,其中发明专利申请5750件,占全市同期发明专利申请总量的62.1%。今年1-8月,园区专利申请量达到4021件,与去年同期相比增长44.6%。

 
 
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