6月10日，中国国家知识产权局副局长、中国知识产权研究会常务副理事长甘绍宁在京会见美国知识产权法律协会代表团一行，双方就共同关心的知识产权问题进行了交流。甘绍宁希望，通过美国知识产权法律协会代表团的此次访问，进一步加强中美两国在知识产权领域的交流，促进两国知识产权非政府组织间的合作。

    甘绍宁表示，近年来，中美两国在知识产权领域的合作不断深化，中国知识产权研究会与美国知识产权法律协会自2005年建立年度互访制度以来，双方在人员互访，共同举办国际知识产权研讨交流活动方面开展了卓有成效的合作。

    美国知识产权法律协会会长韦恩·索邦对中国国家知识产权局的支持表示感谢。他表示，中美两国在知识产权领域一直保持积极交流，增进了两国知识产权业界的相互理解，也期待未来双方合作将进一步深化。

    据悉，该次到访的美国知识产权法律协会代表团共有17人。该代表团将分赴北京、天津、西安进行为期5天的访问。（知识产权报　记者　王璐）