国家知识产权局2011年度专利审查质量满意度调查结果显示，2011年度社会公众对专利审查质量的满意指数为81.5，与2010年的81.1相比有所上升，继续处于公众满意区间。

    据了解，此次调查问卷的内容包括对专利审查全流程各阶段的满意度以及对发明实质审查结案质量的满意度等。调查问卷经过了专家评审和审核认可，调查对象为随机抽样产生，包括国内外专利申请人和国内专利代理机构，有效样本量较2010年增加50%。调查结果由国际通用的满意度模型计算得出，历年调查结果可进行相互比较。

    调查结果显示，绝大多数受访者对审查阶段的审查质量表示满意，认为2011年审查质量较2010年有所提升。另外，发明实质审查和事务处理被受访者认为是对审查质量整体满意度影响最大的两个审查阶段，其中事务处理各项指标满意度自2008年以来首次都在80以上，受访者对发明实审阶段表示基本满意，对发明授权和驳回的满意度分别为77.9和75.1。

    此外，国家知识产权局还对包括华为公司、清华大学、美国通用汽车、日本索尼公司在内的22家国内外重点申请人进行了一对一的深入访谈调查。受访的重点申请人普遍认为，近年来国家知识产权局审查流程通畅，审查周期缩短，审查质量快速提升，对整体审查质量满意。调查结果还显示，国内外申请人对专利审查中的公知常识举证、一通后驳回比例上升以及权利要求的支持等方面提出了意见和建议。

    据了解，针对2011年度部分公众意见的质量改进措施，已经纳入国家知识产权局2012年专利审查工作计划。（记者 贺延芳 通讯员 吕占江）